Institute of Biomedical Engineering (IBT)

O. Doessel, and V. Graeger.
Silizium unter Druck.
In Elektrotechnik, vol. 67, pp. 22-28, 1985

T. Kessler, H. Nahme, N. Schwenter, and O. Dössel.
Hot electron plasma of high density in Xe and Kr crystals.
In Optics Communications, vol. 55(1) , pp. 22-27, 1985

T. Schröder, O. Dössel, H. Nahme, and N. Schwentner.
Transient Absorption of Xe and Kr Guest Atoms in Ar Crystals.
In Physica Status Solidi (b), vol. 131(2) , pp. 741-746, 1985

O. Doessel, U. Bringmann, K. W. Gerstenberg, D. Schön, and P. G. F. H. Forschungsabteilung Technische Systeme.
Neues DMS-System bestehend aus temperaturkompensierten Metallfilmlegierungen und plasmapolymerisierten Isolationsschichten.
BMFT, 1985.